关于印发合肥高新区建设世界领先科技园区政策体系的通知
| 专项政策名称 |
关于印发合肥高新区建设世界领先科技园区政策体系的通知 |
实施细则名称 |
关于印发《合肥高新区培育新兴产业发展若干政策实施细则（半导体中心部分）》 的通知 |
政策印发年份 |
2024 |
| 政策条款名称 |
IC全掩膜（Full Mask)工程流片补贴 |
关键字 |
集成电路 |
是否免申即享 |
否 |
| 政策执行部门 |
半导体投资促进中心 |
联系方式 |
65311109 |
对总部位于合肥高新区的集成电路设计企业， 拥有自主知识产权产品开展全掩膜(Full Mask)工程流片，根据企业入区年限，按照掩膜版制作费用给予最高30%补贴，单个企业年度补贴上限150万元。按照企业入区年限实行分档补贴，其中截至政策兑现通知发布之日计算，入区不满五年的企业，年度补助总额最高150万元；截至政策兑现通知发布之日计算已满五年的企业，年度补助总额最高75万元。（总部要求：1、企业总部位于合肥高新区且企业股东为非单一股东且股东中有投资机构或产业基金；2、企业未在一事一议政策期内或在一事一议政策期内但未享受过资金支持）
2024-01-01 至 2024-12-31
